第一二零三章 nm光刻机研制成功
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临近年尾,孙健有许多大事要处理,不会为终审法院的判决而长吁短叹,昨天接到魏建国的电话,8英寸晶圆和500nm制程工艺光刻机在bsec研制成功!
虽然在10月底就接到好消息,研发工程已经到了尾声,但真正接到确凿的消息,孙健还是很高兴的,当天就乘飞机来到京城,向全体研发人员表示祝贺,当场宣布公司拿出300万元,按照贡献大小,奖励全体研发人员。
从6英寸晶圆、800nm制程工艺光刻机到8英寸晶圆、500nm制程工艺光刻机是一道大坎,bsec投资了8亿元,耗费了18个月!
一旦跨过,bse、180nm制程工艺光刻机就相对容易一些。
因为邓国辉院士领导的光刻机光源研究所经过三年多的努力,7月14日,研制成功全球第一台浸没式193nm光刻机试验机,波长达到134nm,突破了193nm波长极限的世界性难题,因所用的光学系统是委托carlze
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