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一九六一年,gca是第一家制造商业步进和重复掩模减少设备的公司;七五年,推出了首个用于抗蚀剂加工的晶圆轨道;七八年,推出dsw4800、第一个成功的晶圆光刻机;八五年研发出第一台为贝尔实验室开发的duv步进投影式光刻机。
技术实力雄厚。
八八年,generalsignal以七千六百万美元收购了陷入财务困境的gca,随后,sematech资助gca开发krf光刻机。
前世因为美国人不准asml生产的euv光刻机卖给国内,讨论光刻机文章经常出现在网络上,爱国的知识分子义愤填膺,知识无国界只是一句谎言。
光刻机的技术迭代历程分为五代,第一代为g-line,波长436nm接近式光刻机、芯片制程800-250nm;第二代为i-line,波长365nm接近式光刻机、芯片制程800-250nm;第三代为krf,波长248扫描投影式光刻机、芯片制程180-130nm;第四代为arf,波长193nm浸入步�
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