第九三九章 光刻机的现状
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八五年,机电部(如今的工y部)45所研制成功分步光刻机样机,中k院沪海光学精密机械研究所研制的“扫描式投影光刻机“通过鉴定,采用的都是436纳米g线光源,制程工艺达到1.5um,认为均达到gca生产的4800dsw水平,为国内大规模集成电路专用设备填补了一项空白,这是国内第一台分步投影式光刻机,在这个时期,在分步光刻机上与国外的差距不超过七年。
八十年代,国内开始大规模引进外资,用市场换技术,用空间换时间,贸工技的路线挤压了自主技术成长的空间,许多g企纷纷转型,技术下马、项目停滞、“造不如买,买不如租”的思想占据主流,其中也包括光刻机项目。
国内不少打着高科技旗号的公司沉迷在“贸易”和“加工”带来的“快钱”里不可自拔。
虽然集成电路的研发和生产是重点扶持的科研项目,但g企和合�
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