第九三九章 光刻机的现状
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八五年，机电部（如今的工y部）45所研制成功分步光刻机样机，中k院沪海光学精密机械研究所研制的“扫描式投影光刻机“通过鉴定，采用的都是436纳米g线光源，制程工艺达到1.5um，认为均达到gca生产的4800dsw水平，为国内大规模集成电路专用设备填补了一项空白，这是国内第一台分步投影式光刻机，在这个时期，在分步光刻机上与国外的差距不超过七年。
八十年代，国内开始大规模引进外资，用市场换技术，用空间换时间，贸工技的路线挤压了自主技术成长的空间，许多g企纷纷转型，技术下马、项目停滞、“造不如买，买不如租”的思想占据主流，其中也包括光刻机项目。
国内不少打着高科技旗号的公司沉迷在“贸易”和“加工”带来的“快钱”里不可自拔。
虽然集成电路的研发和生产是重点扶持的科研项目，但g企和合�
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