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临近年尾，孙健有许多大事要处理，不会为终审法院的判决而长吁短叹，昨天接到魏建国的电话，8英寸晶圆和500nm制程工艺光刻机在bsec研制成功！
虽然在10月底就接到好消息，研发工程已经到了尾声，但真正接到确凿的消息，孙健还是很高兴的，当天就乘飞机来到京城，向全体研发人员表示祝贺，当场宣布公司拿出300万元，按照贡献大小，奖励全体研发人员。
从6英寸晶圆、800nm制程工艺光刻机到8英寸晶圆、500nm制程工艺光刻机是一道大坎，bsec投资了8亿元，耗费了18个月！
一旦跨过，bse、180nm制程工艺光刻机就相对容易一些。
因为邓国辉院士领导的光刻机光源研究所经过三年多的努力，7月14日，研制成功全球第一台浸没式193nm光刻机试验机，波长达到134nm，突破了193nm波长极限的世界性难题，因所用的光学系统是委托carlze
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