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以学部委员黄坤、王首武和邓国辉为首的十二名光刻机半导体专家组成的专家鉴定组,通过现场测试,专家组组长黄坤亲自书写鉴定报告。
京城半导体设备股份有限公司研发成功的光刻机双工作台系统,在现场,对磁悬浮式双工作台系统进行了十次测试,能提升芯片制程工艺精度15%,提高芯片生产效率35%,还有不断提升的潜力,这项发明在光刻机专利技术中属于世界首创,属于重大核心技术发明,强烈推荐申请公司发明专利。
十二名专家组成员在鉴定报告上签名同意。
魏建国下午四点拿到鉴定报告,四点半来到国家专利局,递交了公司发明专利的申请,公司发明专利申请被受理,将向社会公示六个月。
磁悬浮式光刻机双平台系统是世界光刻机核心技术中的首创技术,京城半导体设备公司通过国家专利局将向美国、日本
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